Trang chủ › Danh mục › Hóa chất công nghiệp › Hexamethyldisiloxane

Hexamethyldisiloxane CAS: 107-46-0

Công thức: C6H18OSi2 Khối lượng: 162.38 g/mol
Công nghiệp / Điện tử / Dược phẩm (Industrial Grade / Electronics Grade / Pharmaceutical Grade) Trung Quốc, Đức, Mỹ, Nhật Bản, EU Độ tinh khiết: ≥ 99.0%
Yêu cầu báo giá

Mô tả sản phẩm

Hexamethyldisiloxane (còn gọi là HMDSO, 1,1,1,3,3,3‑hexamethyldisiloxane) là một hợp chất organosilicon dạng lỏng không màu, dễ bay hơi, có công thức (CH₃)₃Si–O–Si(CH₃)₃. Đây là một trong những siloxane đơn giản nhất, được sản xuất bằng cách thủy phân trimethylchlorosilane.

HMDSO được sử dụng rộng rãi như một dung môi hữu cơ dễ bay hơi, đặc biệt trong các ứng dụng yêu cầu độ tinh khiết cao. Trong công nghiệp bán dẫn và điện tử, nó được dùng làm tiền chất để tạo màng silicon dioxide (SiO₂) bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học (CVD) và làm chất làm sạch bề mặt. Trong mỹ phẩm, nó hoạt động như một chất làm mềm da, dung môi và chất tạo màng trong các sản phẩm chăm sóc da và tóc. Ngoài ra, nó còn là chất trung gian để tổng hợp các hợp chất siloxane phức tạp hơn và làm chất phụ gia trong sơn, chất kết dính, và mực in.

Lưu ý an toàn: Hexamethyldisiloxane dễ cháy, có điểm chớp cháy thấp. Có thể gây kích ứng da và mắt, và hít phải hơi có thể gây buồn ngủ hoặc chóng mặt. Cần sử dụng trong khu vực thông thoáng, đeo găng tay và kính bảo hộ. Bảo quản nơi thoáng mát, tránh xa nguồn nhiệt và tia lửa. Để xa tầm tay trẻ em.

Tính chất

Chất lỏng trong suốt, không màu (Clear, colorless liquid) Mùi đặc trưng nhẹ, gần như không mùi Khối lượng phân tử: 162.38 g/mol Điểm sôi: 100–101°C (ở 760 mmHg) Điểm nóng chảy: –67°C Điểm chớp cháy: –1°C (dễ bay hơi, dễ cháy) Tỷ trọng: 0.764 g/cm³ (ở 25°C) Độ tan: thực tế không tan trong nước, trộn lẫn với hầu hết dung môi hữu cơ (ethanol, ether, aceton, hydrocarbon) Chỉ số khúc xạ: 1.377 (ở 20°C) Áp suất hơi: ~50 mmHg (ở 20°C) Ổn định ở điều kiện thường, nhưng dễ bị thủy phân trong môi trường acid hoặc base mạnh Hút ẩm nhẹ Bảo quản trong bao bì kín, nơi khô ráo, thoáng mát, tránh xa nguồn nhiệt và ngọn lửa

Chưa có nhà cung cấp

Sản phẩm này chưa có nhà cung cấp nào

Gửi yêu cầu tìm nhà cung cấp

Tài liệu tham khảo

Low-Cost Optical Filters Based on SiOxCy:H and Ag Thin Films Fabricated by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Sputtering
Photonics 2024, 11(11), 1096 DOI
Nghiên cứu của Kotbi và cộng sự (2024) trình bày quy trình chế tạo các bộ lọc quang học chi phí thấp sử dụng màng mỏng silicon oxycarbide hydro hóa (SiOxCy:H) và bạc (Ag). Hexamethyldisiloxane (HMDSO, C₆H₁₈OSi₂) được sử dụng làm tiền chất organosilicon để lắng đọng màng SiOxCy:H bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma (PECVD), nhờ vào các ưu điểm như khả năng điều chỉnh vùng cấm, độ ổn định hóa học, độc tính thấp và độ bám dính tốt; các lớp SiOxCy:H thu được đóng vai trò là thành phần điện môi có chiết suất cao, với các tính chất quang học (bao gồm chiết suất, hằng số điện môi và năng lượng vùng cấm) giảm dần khi thời gian lắng đọng tăng lên. Bạc, được lắng đọng bằng phương pháp phún xạ magnetron dòng một chiều (DC), đóng vai trò là lớp kim loại có chiết suất thấp. Các vật liệu này được kết hợp để tạo ra hai thiết kế bộ lọc: cấu trúc kim loại-điện môi đa hốc (MCMD) cho phép truyền dẫn tại bước sóng 670 nm với độ truyền qua khoảng 30% nhưng có dải thông rộng hơn, và cấu trúc hốc Fabry–Perot cho phép truyền dẫn tại bước sóng 830 nm với độ truyền qua khoảng 20% nhưng có độ chọn lọc bước sóng cao hơn; qua đó chứng minh một phương pháp đơn giản, không độc hại và thực hiện ở nhiệt độ phòng để chế tạo các thiết bị quang học có khả năng chọn lọc bước sóng.
Lắng đọng màng silicon dioxide xốp trung bình bằng phương pháp PECVD sử dụng vi sóng
Materials 2025, 18(13), 3205 DOI
Nghiên cứu này khảo sát quá trình lắng đọng màng mỏng silicon dioxide (SiO2) cấu trúc xốp trung bình (mesoporous) bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma vi sóng (mPECVD), sử dụng hexamethyldisiloxane (HMDSO) làm tiền chất chứa silicon và oxy làm khí công tác; trong đó, dưới tác động của năng lượng plasma, các chất phản ứng tạo ra silicon dioxide, carbon dioxide và nước. Các màng silica xốp trung bình thu được – được đặc trưng bởi diện tích bề mặt tự do, đường kính trung bình của các cụm hạt và độ dày màng – đóng vai trò là lớp trung gian tăng cường độ bám dính tại giao diện polymer–kim loại trong các ứng dụng đúc phun; cụ thể, màng này cho phép polymer thẩm thấu để tạo ra cơ chế khóa cơ học ở quy mô nano với các loại nhựa nhiệt dẻo như polyphenylene sulfide (PPS) gia cường sợi thủy tinh, đồng thời việc sử dụng đế nhôm và lớp phủ vàng–palladi (bằng phương pháp phún xạ) giúp thuận lợi hóa quá trình phân tích, đặc tính hóa thông qua kính hiển vi điện tử quét và kỹ thuật giao thoa kế ánh sáng trắng.

Yêu cầu báo giá

Nhận báo giá từ nhiều nhà cung cấp trong 24 giờ

Gửi RFQ ngay

Thông tin nhanh

Cấp độCông nghiệp / Điện tử / Dược phẩm (Industrial Grade / Electronics Grade / Pharmaceutical Grade)
Độ tinh khiết≥ 99.0%
Xuất xứTrung Quốc, Đức, Mỹ, Nhật Bản, EU
Lượt xem6

Yêu cầu báo giá

Hexamethyldisiloxane - CAS 107-46-0